激光辅助分子束沉积技术

美国布法罗的大学教授James Garvey获得政府“小企业创新研究”项目90万美元的资助，将其激光辅助分子束沉积(LAMBD)烧蚀技术商业化。Garvey及其同事利用这笔二期资金和该项目其他资助，创立了AMBD技术公司，并于2000年夏抢先租用布法罗科技培育大学的场地。研究组还与生产脉冲激光沉积设备的Neocera公司签署了制造、销售合作协议，以便直接进入市场。 由激光烧蚀过程发展的薄膜涂层，其生产时的温度比太阳表面温度高得多，在沉积到灵敏电子元件表面之前又骤冷至室温甚至更低温度。利用这样的高温随后通过快速散热过程淬火，解决了电脑芯片制作中一个较困难的问题，即如何在不让器件经历太高温度、甚至可能导致芯片失效的前提下，产生需要的化学过程来包覆芯片。 利用“激光辅助分子束沉积”源产生的薄膜可组合到门电介质之类器件中。对为处于研究阶段的计算机等应用而生产高速芯片的公司，这种技术为他们克服了一些障碍。它还将有利于新一代器件的制作，如可生产纯金属氧化物，包括硅-绝缘体应用中优秀的绝缘体二氧化铈。