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基于UV-LIGA技术的新型RF MEMS开关
引用本文:张永华,丁桂甫,蔡炳初,赖宗声.基于UV-LIGA技术的新型RF MEMS开关[J].微细加工技术,2007(1):60-64.
作者姓名:张永华  丁桂甫  蔡炳初  赖宗声
作者单位:1. 华东师范大学,信息科学技术学院,上海,200062
2. 上海交通大学,微纳科学技术研究院,上海,200030
基金项目:信息产业部电科院预研资助项目;上海市重点实验室基金;上海-应用材料研究发展基金;上海交通大学优秀博士学位论文基金
摘    要:介绍了一种基于UV-LIGA加工技术的双稳态电磁型RF MEMS开关,该结构由于使用了永磁体单元而使得开关在维持“开”或“关”态时不需要功耗,利用牺牲层UV-LIGA技术实现了开关的微制作。非接触式Wyko NT1100光学轮廓仪的测试表明,制备的开关实现了双稳态驱动功能,驱动脉冲电流50 mA,驱动行程17μm,响应时间20μs;开关完成一次驱动姿态转换所需要的功耗不到3μJ。AGILENT 8722ES型S参数网络分析仪的测试表明,开关在12 GHz时的插入损耗为-0.25 dB,隔离度为-30 dB。

关 键 词:射频微机电系统  开关  双稳态电磁驱动  UV-LIGA技术  牺牲层
文章编号:1003-8213(2007)01-0060-05
修稿时间:2006年6月21日

Innovative RF MEMS Switch Based on UV-LIGA Technology
ZHANG Yong-hua,DING Gui-fu,CAI Bing-chu,LAI Zong-sheng.Innovative RF MEMS Switch Based on UV-LIGA Technology[J].Microfabrication Technology,2007(1):60-64.
Authors:ZHANG Yong-hua  DING Gui-fu  CAI Bing-chu  LAI Zong-sheng
Abstract:
Keywords:RF MEMS  switch  bistable electromagnetic actuation  UV-LIGA technology  sacrificial layer
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
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