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| Zn：LiNbO3晶体倍频性能的研究 | |
| 引用本文： | 李铭华,韩爱珍.Zn：LiNbO3晶体倍频性能的研究[J].光学学报,1997,17(4):30-433. |
| 作者姓名： | 李铭华 韩爱珍 |
| 作者单位： | 李铭华:哈尔滨工业大学应用化学系, 哈尔滨 150001 孙尚文:哈尔滨工业大学应用化学系, 哈尔滨 150001 徐玉恒:哈尔滨工业大学应用化学系, 哈尔滨 150001 韩爱珍:哈尔滨工业大学航天电子工程系, 哈尔滨 150001 |
| 基金项目： | 黑龙江省自然科学基金资助。 |
| 摘 要： | 在ＬｉＮｂＯ３晶体中掺入ＺｎＯ，生长ＺｎＯ：ＬｉＮｂＯ３晶体，当ＺｎＯ的掺入浓度高于６ｍｏｌ％时，晶体的抗光损伤能力提高两个数量级，与高掺Ｍｇｏ相似。Ｚｎ：ＬｉＮｂＯ３的倍频转换效率可达５０％左右，高于Ｍｇ；ＬｉＮｂＯ３。本文对Ｚｎ：ＬｉＮｂＯ３晶体中Ｚｎ＾２＋离子占痊以及抗光损伤增强机理进行了初步探讨。 |
| 关 键 词： | 晶体 抗光损伤 倍频 铌酸锂 |
| 收稿时间： | 1996/4/26 |
Frequency Doublng Properties of Zn:LiNbO3 Crystal |
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| Abstract: | Doping ZnO into LiNbO3, Zn:LiNbO3 crystal have been grown. The photo damage resistance increases of two magnituder when the ZnO doping concentrations were higher than 6 mol%. This value is similar to that of MgO(>4.6 mol%):LiNbO 3. The frequency doubling conversion efficiency of Zn (6 mol%):LiNbO3 was measured to be about 5%, ligher than that of Mg (6 mol%):LiNbO3. The location of Zn2+ ions and the enhancement machenism of photo damage resistance of Zn:LiNbO3 are discussed in this paper. |
| Keywords: | Zn:LiNbO3 crystal photo damage resistance frequency doubling |
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