Mapper向台积电发货电子束光刻系统 用于22nm节点

<正>Mapper Lithography日前表示,公司已经向台积电(TSMC)发货其首套300mm电子束(e-beam)无掩模光刻工具,用于22nm工艺研发和器件原型制作。"Mapper的技术为22nm及更高节点具有成本效益的制造提供了很大的保障,"TSMC研发部副总裁Jack Sun表示:"因此我们将评估Mapper的方案,采用该公司第一套这种工具,我们能够探究出它是否适合量产制造。