| Ni纳米线的化学还原法可控制备北大核心 |
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| 引用本文： | 张家奇,刘春萌,刘圆,赵重阳,相文峰,赵昆,唐炼.Ni纳米线的化学还原法可控制备北大核心[J].微纳电子技术,2015(11):741-746. |
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| 作者姓名： | 张家奇 刘春萌 刘圆 赵重阳 相文峰 赵昆 唐炼 |
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| 作者单位： | 1.中国石油大学(北京)油气光学探测技术北京市重点实验室102249;2.中国石油大学(北京)理学院102249; |
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| 基金项目： | 北京市自然基金资助项目(4142047)；北京市青年英才计划资助项目(00001089)；中国石油大学(北京)优秀青年教师研究资助项目(ZX20150108) |
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| 摘 要： | 利用化学还原法制备了Ni纳米线,通过扫描电子显微镜（SEM）研究了制备参数（磁场强度、Ni 2＋离子浓度和反应温度）对Ni纳米线合成以及结构的影响。实验结果表明：磁场强度是影响Ni纳米线直径均匀性的关键因素。无外加磁场时所制得的产物为Ni纳米颗粒;当磁场强度达到0.25 T时,纳米线的长度较长,直径较均匀。Ni 2＋离子浓度决定着纳米线直径的大小。Ni 2＋浓度越低,直径越小。反应温度影响成核以及纳米线的表面形貌。当温度低于50℃时,溶液中没有纳米线生成,说明溶液没有反应;当反应温度在60~80℃范围内时,纳米线的表面均有明显的刺状结构;当温度高于85℃时,纳米线表面的刺状结构数目明显减少,形成了光滑的表面。
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| 关 键 词： | Ni纳米线 化学还原法 Ni2+离子浓度 磁场强度 表面形貌 |
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