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| 深振幅Al调制靶的化学腐蚀制备工艺研究 | |
| 引用本文： | 孙骐, 周斌, 杨帆, 等. 深振幅Al调制靶的化学腐蚀制备工艺研究[J]. 强激光与粒子束, 2005, 17(09). |
| 作者姓名： | 孙骐 周斌 杨帆 沈军 吴广明 |
| 作者单位： | 1.同济大学 波耳固体物理研究所, 上海 200092 |
| 摘 要： | 介绍了用于惯性约束聚变分解实验的铝调制靶的制备。以半导体光刻工艺结合化学腐蚀工艺在铝箔表面引入周期为50 μm的条槽图形,研究腐蚀条件对腐蚀速率的影响;采用光学显微镜、扫描电镜和台阶仪对图形形貌和样品表面成分进行测量和分析,获得厚度在32 μm左右、腐蚀深度达到20 μm的铝调制靶。 |
| 关 键 词： | 惯性约束聚变 铝调制靶 化学腐蚀 |
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