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利用脉冲激光沉积技术在双轴织构的Ni基带上外延CeO2薄膜
引用本文:刘震,王淑芳,赵嵩卿,周岳亮. 利用脉冲激光沉积技术在双轴织构的Ni基带上外延CeO2薄膜[J]. 物理学报, 2005, 54(12)
作者姓名:刘震  王淑芳  赵嵩卿  周岳亮
摘    要:利用脉冲激光沉积技术在氢还原气氛下成功地在双轴织构的Ni基带上外延了高质量的CeO2薄膜.x射线衍射θ-2θ扫描和ω扫描结果表明,CeO2薄膜在Ni基带上呈c轴方向生长,存在很强的平面外织构;极图和ψ扫描显示它具有良好的平面内织构.Ni基片上织构的CeO2薄膜为进一步在其上外延高质量的YBa2Cu3O7-x超导薄膜提供了很好的模板.

关 键 词:双轴织构的Ni基带  CeO2薄膜  脉冲激光沉积

Pulsed laser deposition of epitaxial CeO2 thin films on biaxially textured Ni substrate
Liu Zhen,Wang Shu-Fang,Zhao Song-Qing,Zhou Yue-Liang. Pulsed laser deposition of epitaxial CeO2 thin films on biaxially textured Ni substrate[J]. Acta Physica Sinica, 2005, 54(12)
Authors:Liu Zhen  Wang Shu-Fang  Zhao Song-Qing  Zhou Yue-Liang
Abstract:
Keywords:
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