单晶Ta3FeS6薄膜中巨大的矫顽场 |
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引用本文: | 刘晓伟,熊俊林,王利铮,梁世军,程斌,缪峰.单晶Ta3FeS6薄膜中巨大的矫顽场[J].物理学报,2022(12):380-387. |
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作者姓名: | 刘晓伟 熊俊林 王利铮 梁世军 程斌 缪峰 |
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作者单位: | 1. 南京大学物理学院;2. 南京理工大学理学院物质科学交叉研究中心 |
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基金项目: | 国家自然科学基金(批准号:12074176,62122036,62034004,61921005,61974176);;中央高校基本科研业务费(批准号:020414380179)资助的课题~~; |
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摘 要: | 范德瓦耳斯层状铁磁材料不但为基础磁学的前沿研究提供了重要的平台,同时在下一代自旋电子器件中展示了广阔的应用前景.本文利用化学气相传输方法生长了高质量的、具有本征铁磁性的Ta3FeS6块材单晶.通过机械剥离法得到厚度19—100 nm的Ta3FeS6薄层样品,并发现相应的居里温度在176—133 K之间.低温反常霍尔测量表明Ta3FeS6样品具有面外的铁磁性,其矫顽场在1.5 K可达到7.6 T,这是迄今为止在范德瓦耳斯铁磁薄膜材料中报道的最大数值.此外,在变温过程中,还观察到磁滞回线极性的翻转.相比于通常的范德瓦耳斯磁性材料, Ta3FeS6具有空气稳定性和极大的矫顽场,这为探索稳定的、可小型化的范德瓦耳斯自旋电子器件研究开辟了全新的平台.
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关 键 词: | Ta3FeS6 反常霍尔效应 范德瓦耳斯磁性材料 矫顽场 |
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