Positron implantation profile in kapton

Summary Measurements of positrons' implantation profile were made with geometry as in the majority of PAT experiments, making use of the difference in values of mean lifetimes of positrons in the absorber and in the detector. The function describing the absorption of positrons in the absorber taking into account measurement geometry was fitted to the experimental data. The correction to the exponential relation occurring in this function is the dominating factor for small thicknesses of the absorber. In this analysis various values of positrons' backscatter coefficients of the nickel and of the kapton were also taken into account.

---

Riassunto Sono state effettuate misure del profilo di impianto dei positroni per mezzo della geometria come nella maggioranza degli esperimenti PAT, usando la differenza nei valori delle vite medie dei positroni nell'assorbitore e nel rilevatore. La funzione che descrive l'assorbimento di positroni nell'assorbitore, considerando la geometria di misurazione, è stata adattata ai dati sperimentali. La correzione alla relazione esponenziale che si veriffica in questa funzione è il fattore dominante per spessori ridotti dell'assorbitore. Sono stati presi in esame in quest'analisi anche vari valori dei coefficienti di backscatter dei positroni del nickel e del kapton.

---

Резюме Проведены измерения профиля имплантации позитронов в случае геометрии, как в большинстве экспериментов PAT, используя различия в величинах средних времен жизни позитронов в поглотителе и в детекторе. Функция, описывающая поглощение позитронов в поглотителе с с учетом геомтрии измерения, удовлетворяет экспериментальным данным. Поправка к экспоненциальному отношению, появляющаяся в этой функции, представляет основной коэффициент для малых толщин поглотителя. В этом анализе учитываются различные величины для коэффициентов обратного рассеяния от никеля и картона.