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| 正交设计的最新发展和应用（Ⅳ）——正交设计的投影性质 | |
| 引用本文： | 方开泰,马长兴.正交设计的最新发展和应用（Ⅳ）——正交设计的投影性质[J].数理统计与管理,1999,18(5):35-43,50. |
| 作者姓名： | 方开泰 马长兴 |
| 作者单位： | [1]中国科学院应用数学所 [2]香港浸会大学数学系 |
| 摘 要： | 一个试验有ｋ个因素，每个都有ｑ个水平，若用正交表Ｌｎ（ｑ＾ｓ）（ｓ〉ｑ）来安排，是否取Ｌｎ（ｑ＾ｓ）中的任意ｋ列都有相同效果呢？这方面的性质称为正交表的投影性质，这些性质对正交表的使用有指导作用。本讲介绍部份正交表的投影性质以及均匀性在其中的应用。 |
| 关 键 词： | 正交设计 均匀性 D－效率 正交表 投影性质 |
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