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| 一种根据晶圆移动量精确预测光刻胶日用量的方法 | |
| 作者姓名： | 胡秀梅 |
| 作者单位： | 上海华力微电子有限公司; |
| 摘 要： | 在半导体代工厂根据光刻胶的有效期非常短的特征,制定了一种根据晶圆移动量精确预测光刻胶日用量的方法.该文在分析传统的计算方法的特点上,进行了根据各项目的DPML的设置来对Fab里晶圆移动量来进行每日预测方法的研究,同时进一步阐述了根据每个光刻层所需要的光刻胶的量预测出每日光刻胶的实际用量的方法,并提出了误差的修正措施.有效地减少了光刻胶在库呆滞的时间,减少了浪费. |
| 关 键 词： | 半导体厂 光刻胶 晶圆移动量(Move) DPML |
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