| 气相SiO2在不同pH值介质中的分散特性 |
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| 引用本文： | 郑欧,万南红,周明明,周龙瑞,陈体衔,刘孝伟. 气相SiO2在不同pH值介质中的分散特性[J]. 应用化学, 2011, 28(12): 1448-1452. DOI: 10.3724/SP.J.1095.2011.00761 |
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| 作者姓名： | 郑欧 万南红 周明明 周龙瑞 陈体衔 刘孝伟 |
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| 作者单位： | (1.福州大学化学化工学院化学系 福州 350108;2.超威电源有限公司 新能源技术研究院 长兴 313100) |
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| 基金项目： | 福州大学科技发展基金,福州大学人才基金,福州大学博士后科研启动基金 |
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| 摘 要： | 以激光动态光散射法考察了气相SiO2在不同pH值的H2SO4和NaOH介质中的分散平均水化粒径与表面Zeta电位及二者间的关系。 Zeta电位数据表明,气相SiO2在水中分散的表面硅羟基的等电点(IEP)和滴定终点(TE)的pH值分别为pH(IEP)=2.09和pH(TE)=7.47,利用滴定终点pH (TE)给出了一种简单的气相SiO2表面Si-OH浓度的测定方法。 分散相粒径数据显示,在等电点和滴定终点之间,气相SiO2在水中的分散粒子的粒径能够稳定在230 nm附近;在H2SO4介质中,当pH＜pH(IEP)时,随着H2SO4浓度的增大,体系中的分散粒子发生聚结而使表观粒径增大;在NaOH介质中,当pH＞pH(TE)时,随着NaOH浓度的增大,分散相的表观水化粒径降低,表明NaOH的加入有利于气相SiO2的分散。
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| 关 键 词： | 气相SiO2 激光动态光散射技术 Zeta电位 硅羟基浓度 |
| 收稿时间： | 2010-12-27 |
Effect of pH on the Dispersion Characteristics of Fumed Silica |
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| ZHENG Ou,WAN Nanhong,ZHOU Mingming,ZHOU Longrui,CHEN Tixian,LIU Xiaowei. Effect of pH on the Dispersion Characteristics of Fumed Silica[J]. Chinese Journal of Applied Chemistry, 2011, 28(12): 1448-1452. DOI: 10.3724/SP.J.1095.2011.00761 |
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| Authors: | ZHENG Ou WAN Nanhong ZHOU Mingming ZHOU Longrui CHEN Tixian LIU Xiaowei |
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| Affiliation: | (1.Department of Chemistry,College of Chemistry and Chemical Engineering,Fuzhou University,Fuzhou 350002;2.New Energy Technology Research Institute,Zhejiang Chaowei Power Co.,Ltd,Changxing 313100) |
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| Abstract: | The effect of pH on the particle distribution and zeta potential of the fumed silica(SiO2) suspended in H2SO4 or NaOH aqueous solution and their relationship were investigated with laser dynamic light scattering(DSL).The experiment showed that the isoelectric point(IEP) and titration end(TE) of silanol were at pH(IEP)=2.09 and pH(TE)=7.47,respectively,and a simple method was given for the determination of Si-OH concentration on SiO2 particle surface based on pH(TE).The dispersed phase particle size measurem... |
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| Keywords: | fumed silica laser dynamic light scattering zeta potential Si-OH concentration |
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