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硅基片上的中波红外铝线栅偏振器设计北大核心
引用本文:孔园园,罗海瀚,刘定权.硅基片上的中波红外铝线栅偏振器设计北大核心[J].微纳电子技术,2018(7):461-467.
作者姓名:孔园园  罗海瀚  刘定权
作者单位:1.中国科学院上海技术物理研究所200083;2.中国科学院大学100049;
基金项目:国家自然科学基金资助项目(61675223)
摘    要:设计了一种Si基片上的Al线栅偏振器,在Al线栅和Si基片间引入一层低折射率SiO介质层,适用于3.0-5.0μm的中波红外波段。采用有限时域差分(FDTD)方法,对SiO介质层和金属线栅材料(Al,Au,Ag,Cu和Rh)分别进行了优化。SiO介质层的引入削弱了Al线栅和Si基片之间界面上激发的表面等离子体激元,横磁(TM)偏振光的透过率提高,横电(TE)偏振光的反射增强,消光比上升。对Al,Au,Ag,Cu和Rh五种金属线栅材料分析表明,Al是最合适的材料。当SiO介质层厚度为300 nm、线栅周期为400 nm和占空比为0.5时,Al线栅偏振器在4.0μm波长处的TM偏振光的透过率达到94.8%,消光比为28.3 dB,在3.0-5.0μm波段具有良好的偏振性能。

关 键 词:线栅偏振器  硅(Si)基片  介质层  铝(Al)线栅  消光比
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