| 水蒸气分压强对ITO薄膜均匀性和光电性能的影响 |
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| 引用本文： | 邓建芳,李军建,杨健君. 水蒸气分压强对ITO薄膜均匀性和光电性能的影响[J]. 光电子技术, 2006, 26(3): 185-187,191 |
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| 作者姓名： | 邓建芳 李军建 杨健君 |
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| 作者单位： | 电子科技大学光电信息学院,成都,610054;电子科技大学光电信息学院,成都,610054;电子科技大学光电信息学院,成都,610054 |
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| 基金项目： | 电子科技大学校科研和教改项目 |
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| 摘 要： | 直流磁控溅射法低温制备ITO透明导电薄膜的过程中,在衬底温度为60°C其它工艺参数不变的情况下,通过改变通入的水蒸气分压0~6.67×10-3Pa制备了不同结构的薄膜,研究了水蒸气分压对ITO薄膜电阻率和膜厚的均匀性,光电特性,以及晶体结构的影响。水蒸气的引入可以改善ITO薄膜的电阻率均匀性和膜厚均匀性,增加了ITO薄膜的导电性,对ITO膜可见光透过率也有所提高。
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| 关 键 词： | 氧化铟锡 磁控溅射 均匀性 光电特性 |
| 文章编号： | 1005-488X（2006）03-0185-03 |
| 收稿时间： | 2005-12-30 |
| 修稿时间： | 2005-12-30 |
The Effect of H2O Gas Partial Pressure on the Uniformity and Photoelectric Properties of ITO Films |
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| DENG Jian-fang,LI Jun-jian,YANG Jian-jun. The Effect of H2O Gas Partial Pressure on the Uniformity and Photoelectric Properties of ITO Films[J]. Optoelectronic Technology, 2006, 26(3): 185-187,191 |
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| Authors: | DENG Jian-fang LI Jun-jian YANG Jian-jun |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | ITO magnetron sputtering uniformity photoelectric properties |
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