首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     检索      

近场光学显微技术的进展及其应用
引用本文:方哲宇,刘丹,王笑,黄姗,朱星.近场光学显微技术的进展及其应用[J].电子显微学报,2008,27(1):77-86.
作者姓名:方哲宇  刘丹  王笑  黄姗  朱星
作者单位:北京大学物理学院人工微结构和介观物理国家重点实验室,北京,100871
摘    要:近场光学显微技术突破传统光学衍射极限获得了纳米尺度的空间分辨率,井在近场光存储、平导体材料、生命科学等交叉学科领域发挥了巨大的作用.本文综述了近场光学显微技术的发展现状,讨论了基于近场光学原理的超分辨近场结构在现代光刻技术上的应用、表面等离激元的共振增强作用和束流作用在近场光学领域的进展以及表面增强拉曼散射机理的研究,并介绍了近场光学显微技术在单分子检测和细胞探测等其它生命科学领域的一些发展.

关 键 词:扫描近场光学显微术  超高分辨近场结构  表面等离激元  表面增强拉曼散射  表面等离子晶体  全内反射荧光显微术  近场光学显微技术  应用  microscopy  optical  application  科学领域  探测  细胞  单分子检测  研究  散射机理  表面增强拉曼  束流  增强作用  共振  表面等离激元  光刻技术  现代  超分辨近场结构  光学原理
文章编号:1000-6281(2008)01-0077-10
修稿时间:2007年6月13日

Development and application of near-field optical microscopy
FANG Zhe-yu,LIU Dan,WANG Xiao,HUANG Shan,ZHU Xing.Development and application of near-field optical microscopy[J].Journal of Chinese Electron Microscopy Society,2008,27(1):77-86.
Authors:FANG Zhe-yu  LIU Dan  WANG Xiao  HUANG Shan  ZHU Xing
Abstract:
Keywords:
本文献已被 维普 万方数据 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号