| 光学光刻的极限 |
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| 引用本文： | 童志义.光学光刻的极限[J].电子工业专用设备,2004,33(2):4-9. |
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| 作者姓名： | 童志义 |
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| 作者单位： | 中国电子科技集团公司第四十五研究所,甘肃,平凉,744000 |
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| 摘 要： | 讨论了光学光刻技术的各种分辨力增强技术(RETs),根据各类光刻设备的开发进展,探讨了光学光刻技术的加工极限。
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| 关 键 词： | 光学光刻 分辨力增强技术 浸没式透镜 偶极照明双重曝光 分辨力极限 |
| 文章编号： | 1004-4507(2004)02-0004-06 |
| 修稿时间： | 2004年1月5日 |
The Ultimate Resolution of Optics |
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| TONG Zhi-yi.The Ultimate Resolution of Optics[J].Equipment for Electronic Products Marufacturing,2004,33(2):4-9. |
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| Authors: | TONG Zhi-yi |
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| Abstract: | This paper discusses the resolution enhancement technologies(RETs)in optical lithography.On the basis of developing of the kinds of optical exposure equipments,explores the ultimate resolution of opti-cal lithography in association with the look forward to the future of the people in semiconductor industry. |
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| Keywords: | Optical Lithography RETs Immersion Lithography Double-Exposure Dipole Lithogra-phy Ultimate Resolution |
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