| 乙醇溶液中电沉积CuInSe2(CIS)薄膜过程研究 |
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| 引用本文： | 龙飞,杜晶晶,邹正光.乙醇溶液中电沉积CuInSe2(CIS)薄膜过程研究[J].人工晶体学报,2008,37(6):1476-1483. |
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| 作者姓名： | 龙飞 杜晶晶 邹正光 |
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| 作者单位： | 桂林工学院有色金属材料及其加工新技术教育部重点实验室,桂林,541004;武汉理工大学材料复合新技术国家重点实验室,武汉,430070;桂林工学院有色金属材料及其加工新技术教育部重点实验室,桂林,541004 |
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| 摘 要： | 采用三电极体系,以钼片为工作电极,大面积铂网为辅助电极,饱和甘汞电极(SCE)为参比电极,以氯化铜、氯化铟、亚硒酸为原料,在无水乙醇溶液中,用阴极恒流和恒压两种沉积方法制备出CIS前驱体薄膜,采用XRD和EDAX对制备的薄膜进行了表征,分析了沉积方式、镀液离子浓度、导电盐(LiCl)含量及热处理工艺等因素对薄膜成分及形貌的影响,并对电沉积CIS薄膜的机理进行了初步探讨.在最优条件下所制备的薄膜成分接近标准比且表面致密、均匀.
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| 关 键 词： | 电沉积 CIS薄膜 电流密度 沉积电压 |
Study of CuInSe2(CIS)Films Using Electrodeposition in Alcohol Solution |
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| LONG Fei,DU Jing-jing,ZOU Zheng-guang.Study of CuInSe2(CIS)Films Using Electrodeposition in Alcohol Solution[J].Journal of Synthetic Crystals,2008,37(6):1476-1483. |
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| Authors: | LONG Fei DU Jing-jing ZOU Zheng-guang |
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