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用化学溶液方法在Ni-5at%W基底上制备La2Zr2O7过渡层的研究
引用本文:何东,索红莉,赵跃,刘敏,张迎肖,叶帅,马灵姬,周美玲.用化学溶液方法在Ni-5at%W基底上制备La2Zr2O7过渡层的研究[J].人工晶体学报,2007,36(6):1297-1300,1287.
作者姓名:何东  索红莉  赵跃  刘敏  张迎肖  叶帅  马灵姬  周美玲
作者单位:北京工业大学材料科学与工程学院,新型功能材料教育部重点实验室,北京,100022
基金项目:国家重点基础研究发展计划(973计划);全国百篇优秀博士学位论文作者专项基金;北京市自然科学基金;北京工业大学111人才工程基金计划等资助项目
摘    要:La2Zr2O7(LZO)过渡层以其独特的物理化学性质越来越受到人们的关注。本文以乙酰丙酮镧和乙酰丙酮锆为前驱盐,丙酸为溶剂配置前驱液,用化学溶液方法(CSD)在具有立方织构的Ni-5at%W基底上制备了LZO过渡层薄膜。研究了前驱液成分、性质以及退火温度对LZO成相以及取向的影响。用常规XRD和X射线四环衍射仪分析了LZO薄膜的相成分和织构。结果显示,在1050℃下退火可以获得强立方织构的LZO薄膜,其中(222)峰的Phi扫描半高宽值为8.95°;(400)峰的Chi扫描半高宽值为6.8°。用高分辨扫描电子显微镜(FE-SEM)观察到LZO薄膜表面均匀致密,没有裂纹和空洞。

关 键 词:化学溶液方法  LZO薄膜  过渡层  立方织构  涂层导体
文章编号:1000-985X(2007)06-1297-04
收稿时间:2007-05-11
修稿时间:2007年5月11日

Fabrication of La2Zr2O7 Buffer Layer on Ni-5at%W Substrates by Chemical Solution Depsition
HE Dong,SUO Hong-li,ZHAO Yue,LIU Min,ZHANG Ying-xiao,YE Shuai,MA Ling-ji,ZHOU Mei-ling.Fabrication of La2Zr2O7 Buffer Layer on Ni-5at%W Substrates by Chemical Solution Depsition[J].Journal of Synthetic Crystals,2007,36(6):1297-1300,1287.
Authors:HE Dong  SUO Hong-li  ZHAO Yue  LIU Min  ZHANG Ying-xiao  YE Shuai  MA Ling-ji  ZHOU Mei-ling
Abstract:
Keywords:chemical solution deposition  LZO film  buffer layer  cube texture  coated conductor
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