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实用化1730nm波段掩埋结构半导体激光器的研制
引用本文:林涛,郑凯,王翠鸾,王俊,王勇刚,仲莉,冯小明,马骁宇.实用化1730nm波段掩埋结构半导体激光器的研制[J].半导体学报,2006,27(8).
作者姓名:林涛  郑凯  王翠鸾  王俊  王勇刚  仲莉  冯小明  马骁宇
作者单位:中国科学院半导体研究所,光电子器件工程中心,北京,100083
摘    要:报道了应用于医疗器械的InP基1730nm波段半导体激光器.外延片采用低压金属有机物化学气相沉积法(MOCVD)生长,有源区为5个周期的InGaAs量子阱层和InGaAsP垒层.器件采用pnpn结限制掩埋结构,有源区脊宽2μm、腔长300μm.室温下腔面镀膜后激光器管芯的阈值电流为18±5mA,8mW输出功率时的工作电流为60±5mA.采用TO封装后,100mA工作电流下激光器的输出功率大于5mW,输出波长为1732±10nm,高温恒流加速老化筛选实验表明,器件具有长期工作的可靠性,满足实用化要求.

关 键 词:金属有机物化学气相沉积  半导体激光器  1730nm波段  磷化铟

Fabrication of Practical 1730nm Waveband Laser Diodes with Buried Heterojunction Structures
Lin Tao,Zheng Kai,Wang Cuiluan,Wang Jun,Wang Yonggang,Zhong Li,Feng Xiaoming,Ma Xiaoyu.Fabrication of Practical 1730nm Waveband Laser Diodes with Buried Heterojunction Structures[J].Chinese Journal of Semiconductors,2006,27(8).
Authors:Lin Tao  Zheng Kai  Wang Cuiluan  Wang Jun  Wang Yonggang  Zhong Li  Feng Xiaoming  Ma Xiaoyu
Abstract:
Keywords:
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