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分子束外延Mn4N单晶薄膜的反常霍尔效应研究
引用本文:黄盈,赵治贤,胡雍,李丹.分子束外延Mn4N单晶薄膜的反常霍尔效应研究[J].原子与分子物理学报,2023,40(6):062001-72.
作者姓名:黄盈  赵治贤  胡雍  李丹
作者单位:贵州师范大学,贵州师范大学,贵州师范大学,贵州师范大学
摘    要:Mn4N是立方相的反钙钛矿型晶体,具有显著的亚铁磁性和反常霍尔效应.该文利用等离子辅助分子束外延在MgO(100)衬底上生长厚度为40 nm的Mn4N(100)单晶薄膜,通过X射线衍射θ扫描和φ扫描,证实外延层的结构符合Mn4N单晶的空间结构特征;化学态测试结果表明Mn4N(100)薄膜内部存在Mn0、Mn2+和Mn4+等几种价态,其实际化学式为Mn3.6N,薄膜中存在富余的N元素;电学测试数据表明Mn4N(100)薄膜具有以电子为载流子的反常霍尔效应(在正磁场中得到负的霍尔电阻率),正常霍尔效应的贡献约占千分之六,其反常霍尔电阻率随着测试温度升高5 K~350 K单调增大,说明温度升高导致电子散射现象加剧.通过对测试数据分析可以推断,在5 K~50 K和50 K~75 K温度范围,反常霍尔效应的来源可分别归结为电子斜散射机制和电子边跳机制.在75 K~350 K这一温度范围内,反常霍尔效应...

关 键 词:反常霍尔效应  Mn4N单晶薄膜  分子束外延
收稿时间:2022/6/4 0:00:00
修稿时间:2022/6/26 0:00:00

Study on the anomalous Hall effect in Mn4N single crystal films grown by molecular beam epitaxy
Huang Ying,Zhao Zhi-Xian,Hu Yong and Li Dan.Study on the anomalous Hall effect in Mn4N single crystal films grown by molecular beam epitaxy[J].Journal of Atomic and Molecular Physics,2023,40(6):062001-72.
Authors:Huang Ying  Zhao Zhi-Xian  Hu Yong and Li Dan
Institution:Guizhou Normal University,Guizhou Normal University,Guizhou Normal University and Guizhou Normal University
Abstract:
Keywords:Anomolous Hall effects  Mn4N single crystal films  Molecular beam epitaxy
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