| MoO3/g-Al2O3催化剂单分子层选择性的表征 |
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| 引用本文： | 张谊华,徐奕德,石映祯,倪月琴.MoO3/g-Al2O3催化剂单分子层选择性的表征[J].催化学报,1987,8(1):27-33. |
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| 作者姓名： | 张谊华 徐奕德 石映祯 倪月琴 |
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| 作者单位： | 中国科学院大连化学物理研究所
(张谊华，徐奕德，石映祯)，中国科学院大连化学物理研究所(倪月琴) |
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| 摘 要： | 采用TPR,氧吸附,UV-VIS光谱,XRD和XPS技术研究了MoO_3/γ-Al_2O_3催化剂的单分子层特性。当MoO_3含量低于16wt%时,MoO_3处于高分散状态。低温氧吸附和XPS相对强度比表明:MoO_3在γ-Al_2O_3担体上的饱和单分子层容量分别为5.2和5.5μmol/m~2(BET)。超过单分子层饱和容量,则首先形成Al_2(MoO_4)_3晶粒。随着MoO_3含量增加,孔大小分布也受到很大的影响。由于Mo离子的聚结,当MoO_3含量增高时,小孔对总孔体积的贡献明显地减少。
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| 收稿时间： | 1987-03-25 |
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