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| 在CO存在下六氟化铀的激光光敏反应的研究 | |
| 引用本文： | 侯惠奇,何志强,秦启宗.在CO存在下六氟化铀的激光光敏反应的研究[J].化学学报,1985,43(1):24-29. |
| 作者姓名： | 侯惠奇 何志强 秦启宗 |
| 作者单位： | 复旦大学激光化学研究室 上海 |
| 摘 要： | 本文以TEA CO2 激发光源丶CO为F原子清扫剂丶SF6为光敏剂,研究了UF6的红外光敏反应. 测定了CO分压丶激光频率丶能量密度和脉冲辐照次数对UF6 解率的影响. 测得反应产物中有COF2 存在, 反应速率丶能量密度和脉冲辐照次数对UF6解离的影响. 测得反应产物中有COF2 存在, 反应速率与UF6 分压呈一级关系. 同时, 还计算刀振动受激的SF6和UF6分子的态密度, 讨论SF6与UF6分子间的V-V能量转移及该光敏反应的机理. |
| 关 键 词： | 光敏化 反应机理 二氧化碳激光器 能量传递 六氟化铀 |
Infrared laser sensitized dissociation of uf6 in the presence of co |
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| Abstract: | |
| Keywords: | PHOTOSENSITIZATION REACTION MECHANISM CO2 LASER ENERGY TRANSFER URANIUM HEXAFLUORIDE |
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