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InSb—MIS器件中PECVD氮氧化硅栅介质膜的研究

引用本文：	於伟峰,李孔宁.InSb—MIS器件中PECVD氮氧化硅栅介质膜的研究[J].红外研究,1989,8(6):409-415.

作者姓名：	於伟峰李孔宁

摘要：
关键词：	锑化铟 MIS器件氮氧化硅薄膜
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