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离子注入机靶室尘埃污染与系统改造
引用本文:陈毅功.离子注入机靶室尘埃污染与系统改造[J].电子工业专用设备,2002,31(2):103-105.
作者姓名:陈毅功
作者单位:深圳外贸中心深圳科鹏微电子有限公司,广东深圳,518004
摘    要:讨论了离子注入机尘埃污染的原因 ,给出了用冷凝泵系统取代扩散泵系统的改造实践 ,并提出了预防维修措施以全面减少尘埃污染。

关 键 词:离子注入机  尘埃  污染
文章编号:1004-4507(2002)02-0103-03
修稿时间:2002年4月28日

Particle Contamination and System Reformation in End Station of Ion Implanter
CHEN Yi,gong.Particle Contamination and System Reformation in End Station of Ion Implanter[J].Equipment for Electronic Products Marufacturing,2002,31(2):103-105.
Authors:CHEN Yi  gong
Abstract:This paper discusses the causes of particle contamination in end station of ion implanter. A useful reformation that substitute CTI-CRYO pump system instead of oil diffusion pump system is reported. To reduce particle contamination effectively , it is important that execute preventive maintenance methods.
Keywords:Ion Implanter  particle  Contamination  
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