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| 等离子蚀刻技术 | |
| 引用本文： | 尾木齐,饭田进也,黄勤山.等离子蚀刻技术[J].电子工业专用设备,1981(1). |
| 作者姓名： | 尾木齐 饭田进也 黄勤山 |
| 摘 要： | <正> 为了替换湿法蚀刻技术,因而等离子蚀刻技术受到注意。最初,根据圆筒形等离子蚀刻装置,剥掉光致抗蚀剂,活跃地进行丁关于多晶硅、单晶硅、Si_3N_4膜等蚀刻技术的研制。因为利用等离子化学活性的纯化学反应,所以蚀刻的结果,在本质上与所使用的溶液有显著不同。而且对避免由废液引起的公害,废液处理 |
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