|
|||||
|
|
| X射线光刻机的开发研制 | |
| 引用本文： | 李连进.X射线光刻机的开发研制[J].天津理工学院学报,2002,18(3):79-81. |
| 作者姓名： | 李连进 |
| 摘 要： | X射线光刻是一种能满足大规模集成电路生产的加工技术。本文论述了X射线光刻技术的发展历史和前景，阐述X射线光刻机的光源、曝光系统、掩摸和步进驱动平台等的主要结构和研制动机，提出在X射线光刻机设计中要注意的几个主要问题。 |
| 关 键 词： | X射线光刻机 大规模集成电路 制造设备 光源 曝光系统 步地驱动平台 |
| 本文献已被 维普 等数据库收录！ | |