Al/Zr-V/Mo多层膜的XPS分析 |
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引用本文: | 王海峰,彭述明,张小红.Al/Zr-V/Mo多层膜的XPS分析[J].工程物理研究院科技年报,2003(1):497-498. |
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作者姓名: | 王海峰 彭述明 张小红 |
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摘 要: | 采用电阻蒸镀的方法将单一C15相ZrV2合金蒸发,经物理气相沉积在Mo底衬上沉积一层厚度约5μm的Zr-V/Mo膜。再将高纯铝(纯度大于99.99%)蒸发至Zr-V/Mo膜表面,从而制备出Al/Zr-V/Mo多层膜。
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关 键 词: | 铝 锆 钒 钼 多层膜 XPS 物理气相沉积 生长工艺 |
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