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Al/Zr-V/Mo多层膜的XPS分析
引用本文:王海峰,彭述明,张小红.Al/Zr-V/Mo多层膜的XPS分析[J].工程物理研究院科技年报,2003(1):497-498.
作者姓名:王海峰  彭述明  张小红
摘    要:采用电阻蒸镀的方法将单一C15相ZrV2合金蒸发,经物理气相沉积在Mo底衬上沉积一层厚度约5μm的Zr-V/Mo膜。再将高纯铝(纯度大于99.99%)蒸发至Zr-V/Mo膜表面,从而制备出Al/Zr-V/Mo多层膜。

关 键 词:        多层膜  XPS  物理气相沉积  生长工艺
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