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| 大规模集成电路和短沟道效应 | |
| 引用本文： | 王守武.大规模集成电路和短沟道效应[J].物理,1987(5). |
| 作者姓名： | 王守武 |
| 作者单位： | 中国科学院半导体研究所 |
| 摘 要： | 自从1960年仙童公司首次宣布制成单块集成电路以来,集成电路技术得到了迅速发展.集成度由最初的每片十几个元件发展到现在的每片数百万元件以上,如图1(a)所示,1975年前集成度平均每年翻一番,1975年后逐步下降为每两年翻一番,同时出现了超大规模集成电路(>10万元件/片).随集成度的增加,单个元件的尺寸必然不断减小,最细线宽也由最初几+μm下降到1μm,如图1(b)所示,平均每年下降13%.实验室现在最细线宽可做到20-30nm,集成电路的价格也逐年下降,如图2所示,存贮器每位价格平均每两年下降50%.七十年代中期1K存贮器每位约1美分,现在256K存贮器价… |
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