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CVD法制备ZnO薄膜生长取向和表面形貌
引用本文:田珂,施媛媛,徐小秋,钟声,傅竹西. CVD法制备ZnO薄膜生长取向和表面形貌[J]. 发光学报, 2008, 29(2): 294-298
作者姓名:田珂  施媛媛  徐小秋  钟声  傅竹西
作者单位:中国科学技术大学,物理系,安徽,合肥,230026
摘    要:利用具有特定温度梯度的CVD设备,以锌粉和氧气为原料,在Si(100)衬底上制备了ZnO薄膜。研究发现,锌粉中加入某些氯化物后可以改变ZnO薄膜的生长取向。用FESEM观察ZnO薄膜的表面形貌,发现Zn和氯化物的量比为1∶1时,生长的ZnO薄膜表面晶粒呈菱形或三角形({101}面),当二者的量比为10∶1时薄膜表面晶粒呈六棱台形({001}面)。XRD分析结果证实,前者只观察到(101)和(202)衍射峰,而后者出现(002)衍射峰且其强度大于(101)衍射峰。改变衬底或温度后得到的结果相同。因此,作者认为氯化物改变薄膜生长取向的现象与衬底和生长温度无关,添加的氯化物起到降低ZnO{101}面表面能的作用,随着氯化物浓度的增加,薄膜从沿[001]方向生长逐渐转向沿[101]方向生长。

关 键 词:CVD  ZnO薄膜  生长取向  生长机理
文章编号:1000-7032(2008)02-0294-05
修稿时间:2007-10-25

The Investigation of Growth Orientations of ZnO Films by CVD
TIAN Ke,SHI Yuan-yuan,XU Xiao-qiu,ZHONG Sheng,FU Zhu-xi. The Investigation of Growth Orientations of ZnO Films by CVD[J]. Chinese Journal of Luminescence, 2008, 29(2): 294-298
Authors:TIAN Ke  SHI Yuan-yuan  XU Xiao-qiu  ZHONG Sheng  FU Zhu-xi
Abstract:
Keywords:CVD  ZnO films  growth direction  growth mechanics
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