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限制空间法制备大尺寸单层二硫化钨薄膜
引用本文:张秀梅,肖少庆,史丽弘,南海燕,顾晓峰. 限制空间法制备大尺寸单层二硫化钨薄膜[J]. 人工晶体学报, 2018, 47(6): 1254-1260
作者姓名:张秀梅  肖少庆  史丽弘  南海燕  顾晓峰
作者单位:江南大学电子工程系,物联网技术应用教育部工程研究中心,无锡 214122;江南大学理学院,光电信息科学与工程系,无锡 214122;江南大学电子工程系,物联网技术应用教育部工程研究中心,无锡 214122;江南大学理学院,光电信息科学与工程系,无锡 214122
基金项目:国家自然科学基金(61404061,11704159);江苏省自然科学青年基金(BK20130115,BK20140168,BK20170167)
摘    要:采用一种限制空间的化学气相沉积方法,在整个SiO2(300 nm)/Si衬底上制备出了大面积、大尺寸、高质量的单层WS2薄膜,薄膜尺寸随生长时间可控,最大尺寸可达500 μm.利用光镜、原子力显微镜(AFM)、荧光、拉曼以及XPS等手段对所得的单层WS2样品进行了表征.结果表明:限制空间方法可以很好地对两种源粉的比例进行调控,制备的单层WS2薄膜样品以三角形为主导,有着清洁的表面、均匀的荧光和拉曼强度分布,以及较高的单晶质量.限制空间化学气相沉积方法操作简单,可控性与可重复性高,可以为其他过渡金属硫属化合物单层薄膜材料的大面积、大尺寸、高质量生长提供借鉴.

关 键 词:限制空间  单层WS2薄膜  CVD  大尺寸,

Sythesis of Large Size Monolayer WS2Thin Film by Confined-space Method
ZHANG Xiu-mei,XIAO Shao-qing,SHI Li-hong,NAN Hai-yan,GU Xiao-feng. Sythesis of Large Size Monolayer WS2Thin Film by Confined-space Method[J]. Journal of Synthetic Crystals, 2018, 47(6): 1254-1260
Authors:ZHANG Xiu-mei  XIAO Shao-qing  SHI Li-hong  NAN Hai-yan  GU Xiao-feng
Abstract:
Keywords:
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