| 高PS材料制备及工艺研究 |
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| 引用本文： | 张家祥,王威,王彦强,焦宇,周海龙,张芳,徐闪闪,陈召,覃一锋,张文余,黄东升,陈思.高PS材料制备及工艺研究[J].液晶与显示,2019(3):236-240. |
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| 作者姓名： | 张家祥 王威 王彦强 焦宇 周海龙 张芳 徐闪闪 陈召 覃一锋 张文余 黄东升 陈思 |
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| 作者单位： | 北京京东方光电科技有限公司 |
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| 基金项目： | 京东方厚膜材料研发基金~~ |
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| 摘 要： | 本文对高膜厚PS材料进行了研究,通过工艺优化,成功在G5线实现了60～120μm的高PS。通过前烘工艺和固化工艺优化调整,得到了无气泡、膜面良好的高PS材料。本文还对曝光量对PS影响进行了研究,发现曝光量低于50mJ时,PS材料无法有效成型;当曝光量达到150mJ时,得到形貌良好,达到设计值的PS。最后还对不同基底高PS材料进行了研究,发现未进行增粘处理时,SiN基底粘附性良好,Mo基底还需继续优化处理。
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| 关 键 词： | 液晶透镜 PS材料 高膜厚 |
Manufacture and process of high PS material |
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| Institution: | (Beijing BOE Optoelectronics Technology Co. , Ltd., Beijing 100176, China) |
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| Abstract: | ZHANG Jia-xiang;WANG Wei;WANG Yan-qiang;JIAO Yu;ZHOU Hai-long;ZHANG Fang(Beijing BOE Optoelectronics Technology Co. , Ltd., Beijing 100176, China) |
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| Keywords: | liquid crystal lens LC antenna PS material high thickness |
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