Grundlagen photometrischer Analysenverfahren |
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Authors: | G Gottschalk |
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Institution: | (1) Osram-Studiengesellschaft für elektrische Beleuchtung, Berlin |
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Abstract: | Zusammenfassung In fast allen technischen Stoffkombinationen lassen sich Kupferspuren in der Größenordnung von 1-0,001 Gew.-% durch photometrische Messung der Braun- bis Gelbfärbung des Kupfercarbat-Extraktes in Trichloräthylen schnell und sicher erfassen. Die Voraussetzung für eine optimale Arbeitstechnik wurden untersucht. Die Ergebnisse von mehr als 350 Testanalysen der Arbeitsbereiche Mikro I und Mikro II (0,5–320 g Cu) wurden hierzu nach mathematisch-statistischen Methoden ausgewertet und in Form von Extinktionskoeffizienten, Verfahrenskonstanten, Fehlergrößen und Selektivitätsangaben tabellarisch zusammengefaßt.I. Mitteilung: Gottschalk, G.: diese Z. 187, 164 (1962); II. Mitteilung: Gottschalk, G.: diese Z. 193, 1 (1963).Frau S. Paape sei für die sorgfältige Durchführung der Versuche gedankt. |
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