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低压-金属有机物汽相外延生长的Ga_(1-x)In_xAs/InP激光器中深能级的研究
作者姓名:卢励吾  周洁  封松林  段树坤
作者单位:北京半导体超晶格国家重点实验室,中国科学院半导体研究所,北京集成光电子学联合实验室中国科学院半导体研究所实验区
摘    要:应用深能级瞬态谱(DLTs)技术详细研究低压-金属有机物汽相外延(LP-MOVPE)生长的Ga_(0.47)In_(0.53)As/Inp量子阱、宽接触和质子轰击条形异质结激光器中的深能级。样品的DLTS表明,在宽接触激光器的i-Ga_(0.47)In_(0.53)As有源层里观察到H1(E_v+0.09eV)和E1(E_c-0.35eV)陷阱,它们可能分别与样品生长过程中扩散到i-Ga_(0.47)In_(0.53)As有源层的Zn和材料本身的原生缺陷有关。而条形激光器的i-Ga_(0.47)In_(0.53)As有源层的H2(E_v+0.11eV)和E2(E_v-0.42eV)陷阱则可能是H1和E1与质子轰击引起的损伤相互作用的产物。

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