| 冶金级硅中杂质的表面吸附与去吸附除杂 |
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| 引用本文： | 颜颉颃,彭继霆,周浪,周潘兵,杜国平,苏文华.冶金级硅中杂质的表面吸附与去吸附除杂[J].南昌大学学报(理科版),2008,32(2):170-173. |
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| 作者姓名： | 颜颉颃 彭继霆 周浪 周潘兵 杜国平 苏文华 |
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| 作者单位： | 1. 南昌大学,材料科学与工程学院/NCU-LDK太阳能研究中心,江西,南昌,330031
2. 江西港源硅业有限责任公司,江西,丰城,331100 |
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| 摘 要： | 对冶金级硅的物理提纯因可望成为低成本太阳能级硅生产技术而受到各国高度关注.利用硅中杂质的表面吸附偏聚,对冶金级硅粉进行酸洗去吸附除杂.并尝试在此后进行高温退火以再次造成表面扩散偏聚,然后继以二次酸洗去吸附除杂.结果表明这种技术对硅中金属杂质有一定除杂效果,可以作为进一步提纯前的预处理;高温退火后二次酸洗能够进一步降低杂质含量,但效果并不显著,难于生产应用.扩散计算表明,高温退火偏聚处理对较重金属杂质有效,而对B、P杂质则几乎没有效果.
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| 关 键 词： | 冶金级硅 太阳能级硅 酸洗 表面吸附 |
Surface Adsorption of Impurities in Metallurgical Grade Silicon and their Removal by Desorption |
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| YAN Xie-hang,PENG Ji-ting,ZHOU Lang,ZHOU Pan-bing,DU Guo-ping,SU Wen-hua.Surface Adsorption of Impurities in Metallurgical Grade Silicon and their Removal by Desorption[J].Journal of Nanchang University(Natural Science),2008,32(2):170-173. |
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| Authors: | YAN Xie-hang PENG Ji-ting ZHOU Lang ZHOU Pan-bing DU Guo-ping SU Wen-hua |
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