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覆锇膜阴极表面同步辐射光电子谱研究
引用本文:阴生毅,张洪来,杨靖鑫,奎热西,钱海杰,王嘉欧,王宇,王欣欣.覆锇膜阴极表面同步辐射光电子谱研究[J].电子与信息学报,2011,33(12).
作者姓名:阴生毅  张洪来  杨靖鑫  奎热西  钱海杰  王嘉欧  王宇  王欣欣
作者单位:1. 中国科学院电子学研究所高功率微波源与技术重点实验室 北京100190
2. 中国科学院电子学研究所高功率微波源与技术重点实验室 北京100190;中国科学院研究生院 北京 100039
3. 中国科学院高能物理研究所 北京100049
基金项目:国家自然科学基金(60871053)资助课题
摘    要:为何浸渍阴极表面覆一层高功函数的锇(Os)膜后发射能力可以显著增加?这是一个长期未搞清的重要问题.该文在对阴极进行发射性能测试和扫描电镜分析的基础上,利用同步辐射光电子谱装置,对覆钨(W)膜阴极和覆Os膜阴极表面的元素成分及化学状态进行了全面系统的研究.结果表明,覆Os膜阴极的电子发射能力是覆W膜阴极2.65倍;与覆W膜相比,覆Os膜使阴极表面的钡(Ba)原子和低结合能态的吸附氧(O)原子分别增加了40%和56%.进一步分析认为,Os膜具有易氧化及氧化物易分解的特性,这一特性决定了覆Os膜阴极在激活后可以获得更多的超额钡Ba+(a),并因此具备更高的电子发射能力.

关 键 词:浸渍阴极  锇(Os)膜  同步辐射光电子能谱  化学态  超额钡

Study on Surface of Impregnated Cathodes Coated Os Film by Synchronous Radiation Photoelectron Spectrum
Yin Sheng-yi,Zhang Hong-lai,Yang Jing-xin,Urash Ibrahim,Qian Hai-jie,Wang Jia-ou,Wang Yu,Wang Xin-xin.Study on Surface of Impregnated Cathodes Coated Os Film by Synchronous Radiation Photoelectron Spectrum[J].Journal of Electronics & Information Technology,2011,33(12).
Authors:Yin Sheng-yi  Zhang Hong-lai  Yang Jing-xin  Urash Ibrahim  Qian Hai-jie  Wang Jia-ou  Wang Yu  Wang Xin-xin
Abstract:
Keywords:
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