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Kinetic and thermodynamic control by chemical bond rearrangement on a Si(001) surface
Authors:
Hamai Chiho
Takagi Akihiko
Taniguchi Masateru
Matsumoto Takuya
Kawai Tomoji
Institution:
Institute of Scientific and Industrial Research, Osaka University, 8-1 Mihogaoka, Ibaraki, Osaka 567-0047, Japan.
Abstract:
Keywords:
adsorption
kinetics
reaction mechanisms
silicon
thermodynamics
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