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Kinetic and thermodynamic control by chemical bond rearrangement on a Si(001) surface
Authors:Hamai Chiho  Takagi Akihiko  Taniguchi Masateru  Matsumoto Takuya  Kawai Tomoji
Institution:Institute of Scientific and Industrial Research, Osaka University, 8-1 Mihogaoka, Ibaraki, Osaka 567-0047, Japan.
Abstract:
Keywords:adsorption  kinetics  reaction mechanisms  silicon  thermodynamics
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