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| 土壤质地对多环芳烃荧光工作曲线影响的研究 | |
| 引用本文： | 张汉,雷涛,梁嘉麒,董桂梅,杨仁杰.土壤质地对多环芳烃荧光工作曲线影响的研究[J].光谱学与光谱分析,2023(S1):293-294. |
| 作者姓名： | 张汉 雷涛 梁嘉麒 董桂梅 杨仁杰 |
| 作者单位： | 天津农学院工程技术学院 |
| 基金项目： | 国家自然科学基金项目(41771357)； |
| 摘 要： | 土壤质地对多环芳烃(PAHs)的荧光检测造成不可忽视的干扰，论文在探究不同二氧化硅含量，相同菲浓度土壤样品荧光强度与漫反射率变化关系的基础上，建立了一种基于近红外漫反射光谱减小土壤质地对PAHs荧光强度影响的校正方法。校正前后荧光强度与PAHs浓度之间线性拟合的复相关系数R2分别为5.42×10-6和0.94。研究结果表明：所建立的校正方法可有效减小土壤中二氧化硅对荧光定量分析PAHs工作曲线的影响。 |
| 关 键 词： | 土壤 二氧化硅 多环芳烃 荧光光谱 近红外漫反射光谱 校正方法 |