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| a-C:H膜化学结构对光学性能的影响 | |
| 引用本文： | 刘兴华,吴卫东,何智兵,张宝玲,王红斌,蔡从中.a-C:H膜化学结构对光学性能的影响[J].强激光与粒子束,2009,21(3). |
| 作者姓名： | 刘兴华 吴卫东 何智兵 张宝玲 王红斌 蔡从中 |
| 作者单位： | 1. 重庆大学,输配电装备及系统安全与新技术国家重点实验室,重庆,400044;中国工程物理研究院激光聚变研究中心,四川绵阳,621900 2. 中国工程物理研究院激光聚变研究中心,四川绵阳,621900 3. 重庆大学数理学院,重庆,400044 |
| 基金项目： | 国家高技术研究发展计划(863计划) |
| 摘 要： | 选用体积分数为99.999 9%的H2及反式-2-丁烯(T2B)为工作气体,利用低压等离子体增强化学气相沉积法制备了a-C;H薄膜.利用傅里叶变换红外光谱仪和X射线光电子能谱对薄膜化学键和电子结构进行分析,并结合高斯分峰拟合分析了薄膜中sp3/sp2杂化键比值和sp3C杂化键分数.结果表明:薄膜中氢含量较高,主要以sp3C-H形式存在;工作气压越高,制备的薄膜中C=C键含量越少,薄膜中sp3/sp2杂化键比值和sp3C杂化键分数增加,薄膜稳定性提高.应用UV-VIS光谱仪,获得了波长在400～1 000 nm范围内薄膜的光吸收特性,结果显示:a-C:H薄膜透过率可达98%.光学常数公式计算得到工作压强为4～14 Pa时光学带隙在2.66～2.76之间,并均随着工作气压的升高而增大.结果表明,随工作气压的升高,薄膜内sp3键减小,从而促使透过率、光学带隙增大. |
| 关 键 词： | a-C:H薄膜 化学键 透过率 光学带隙 低压等离子体增强化学气相沉积法 |
Influence of chemical structure of a-C:H films on optics property |
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| Liu Xinghua,Wu Weidong,He Zhibing,Zhang Baoling,Wang Hongbin,Cai Congzhong.Influence of chemical structure of a-C:H films on optics property[J].High Power Laser and Particle Beams,2009,21(3). | |
| Authors: | Liu Xinghua Wu Weidong He Zhibing Zhang Baoling Wang Hongbin Cai Congzhong |
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