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摘 要:
一种新的低压场致 发光层的制备方法 苏联Светотехника杂志1973年第4期报导了一种新的低压场致发光层的制备方法,内容如下: 在工业中广泛采用的场致发光层的制备方法是喷敷法和浇敷法,用这两种办法可以制备出很均匀的屏,但是厚度较厚20—70微米。这一点就决定了在电压40—60伏,频率400—1000赫芝时,场致发光指示器的亮度很低。利用新的办法制备场致发光层,也就是被我们称为汲取的方法,能提高指示器的
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