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| 离子薄层活化及其应用 | |
| 引用本文： | 王震遐. 离子薄层活化及其应用[J]. 物理,1987,16(1). |
| 作者姓名： | 王震遐 |
| 作者单位： | 中国科学院上海原子核研究所 |
| 摘 要： | 离子薄层活化（ＴＬＡ）是七十年代后期发展起来的一种核技术［１］．在固体材料表面由于某种原因（例如磨损、腐蚀或溅射等）而有质量损失的情况下，这种新技术具有灵敏度高和可以进行原位测量等优点．离子薄层活化也可称为放射性同位素的工业标记方法，在现代工业上有着广泛的应用价值．它在诸如机械部件的表面磨损、化学腐蚀、等离子侵蚀以及离子溅射等很多方面的研究测试中都是独具一格的手段．ＴＬＡ方法的原理很简单．离?... |
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