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光折变X射线半导体超快响应芯片空间性能的实验研究EI北大核心CSCD
引用本文:谭小波,闫欣,易涛,何凯,邵铮铮,周凯凯,高贵龙,汪韬,张军,庄钊文.光折变X射线半导体超快响应芯片空间性能的实验研究EI北大核心CSCD[J].光子学报,2022(2):149-155.
作者姓名:谭小波  闫欣  易涛  何凯  邵铮铮  周凯凯  高贵龙  汪韬  张军  庄钊文
作者单位:1.国防科技大学电子科学学院410073;2.中国科学院西安光学精密机械研究所超快诊断技术重点实验室710119;3.中国工程物理研究院激光聚变研究中心621900;
基金项目:国家自然科学基金(No.51302316)。
摘    要:利用高能量纳秒激光轰击Al靶材产生的X射线作为信号源,对光折变X射线半导体响应芯片的空间性能进行实验研究。结果表明,低温生长AlGaAs芯片具备在X射线入射能量120∶1的动态范围内进行高空间分辨的大画幅成像能力,最优空间分辨率≥35 lp/mm@MTF=0.1,成像画幅可达6.7 mm×6.7 mm。该研究对于光折变X射线超快成像系统的研制具有参考意义。

关 键 词:光折变效应  X射线成像  超快成像  空间分辨率  动态范围
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