| 沉积压力对磁控溅射纳米硅薄膜结构和性能影响 |
| |
| 引用本文： | 于军,王晓晶,雷青松,彭刚,徐玮. 沉积压力对磁控溅射纳米硅薄膜结构和性能影响[J]. 人工晶体学报, 2009, 38(3): 556-560 |
| |
| 作者姓名： | 于军 王晓晶 雷青松 彭刚 徐玮 |
| |
| 作者单位： | 华中科技大学电子科学与技术系,武汉,430074;华中科技大学电子科学与技术系,武汉,430074;湖北省光伏工程技术研究中心,武汉,430074 |
| |
| 基金项目： | 国家自然科学基金重大资助项目 |
| |
| 摘 要： | 采用射频(RF)磁控溅射方法在玻璃衬底上制备了氢化纳米硅薄膜,研究了沉积压力(4～9 Pa)对薄膜结构和性能的影响.利用XRD、SEM、紫外-可见光分光光度计、傅立叶红外吸收光谱仪(FT-IR)及四探针电阻测试仪等对薄膜结构和性能进行了表征.结果表明:随着沉积压力的提高,薄膜结晶程度逐渐变差,晶粒尺寸降低;薄膜光学带隙在2.04～2.3 eV之间,且随着沉积压力的提高而增加;薄膜具有SiH、SiO、SiH2和SiH3振动吸收峰, 随着沉积压力的增加,SiH、SiH2振动吸收峰向高波数移动,薄膜方块电阻在132～96 Ω/□,且随着沉积压力的升高而降低.
|
| 关 键 词： | 氢化纳米硅 磁控溅射 沉积压力 光学带隙, |
Effects of Deposition Pressure on Nanocrystalline Silicon Thin Film by Magnetron Sputtering |
| |
| YU Jun,WANG Xiao-jing,LEI Qing-song,PENG gang,XU Wei. Effects of Deposition Pressure on Nanocrystalline Silicon Thin Film by Magnetron Sputtering[J]. Journal of Synthetic Crystals, 2009, 38(3): 556-560 |
| |
| Authors: | YU Jun WANG Xiao-jing LEI Qing-song PENG gang XU Wei |
| |
| Affiliation: | 1.Department of Electronics Science and Technology;Huazhong University of Science and Technology;Wuhan 430074;China;2.Hubei PV Center of Engineering and Technology;China |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | |
| 本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录！ |
| 点击此处可从《人工晶体学报》浏览原始摘要信息 |
|
点击此处可从《人工晶体学报》下载全文 |
|
