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| 涂敷CsⅠ的微通道板的表面特性及量子效率测量 | |
| 引用本文： | J.H.Chappell,王军胜.涂敷CsⅠ的微通道板的表面特性及量子效率测量[J].应用光学,1990(4). |
| 作者姓名： | J.H.Chappell 王军胜 |
| 摘 要： | 研究了几种影响PVD CsI光电阴极材料物理生长和重复性的参数,特别是为了提高软X射线的灵敏度对这种材料用作微通道板涂层的影响。还测量了在0.7到4.5keV范围内响应X射线时涂敷CsI微通道板的量子效率。 |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |
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