亚舍立科技公司主办解决200mm工艺难题之先进技术研讨会

亚舍立科技公司于2003．11．18日在上海金茂君悦大酒店举办了解决2001mm工艺难题之先进技术研讨会，来自上海复旦大学、亚舍立科技的教授、专家就“纳米级CMOS工艺之新材料、结构和加工技术”，“低介质及铜材料去胶清洗新工艺”，“在后段制程(BEOL)以减少湿法清洗的聚合物干法去除工艺”等进行了探讨。