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通过交替生长气氛调控N掺杂ZnO薄膜电学特性
引用本文:赵鹏程,张振中,姚斌,李炳辉,王双鹏,姜明明,赵东旭,单崇新,刘雷.通过交替生长气氛调控N掺杂ZnO薄膜电学特性[J].发光学报,2014,35(4):399-403.
作者姓名:赵鹏程  张振中  姚斌  李炳辉  王双鹏  姜明明  赵东旭  单崇新  刘雷
作者单位:1. 发光学及应用国家重点实验室 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所, 吉林 长春 130033; 2. 中国科学院大学, 北京 100049; 3. 吉林大学 物理学院, 吉林 长春 130023
基金项目:国家“973”计划(2011CB302002,2011CB302005); 国家自然科学基金(10974197, 11104265)资助项目
摘    要:使用分子束外延方法在c面蓝宝石衬底上生长了系列氮掺杂ZnO薄膜样品。在连续的富锌气氛环境中生长的样品,由于存在大量的施主缺陷,呈现n型电导。为了抑制施主缺陷带来的补偿效应,在生长过程中,通过周期性补充氧气,形成周期性的富氧气氛,缓解了氮掺杂浓度和施主缺陷浓度之间的矛盾。光致发光测量表明,通过交替生长气氛,氧空位和锌间隙等缺陷在薄膜中得到了显著抑制。通过交替生长气氛生长的外延薄膜的结晶质量也有所提高。样品显示出重复性较高的p型电导,载流子浓度可达到1016 cm-3。周期性补氧调节生长气氛的生长方式是一种有效实现p型掺杂ZnO的方法。

关 键 词:氧化锌  p型掺杂  间歇性补氧
收稿时间:2013/9/25
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