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Si6N2团簇结构与性质的密度泛函理论研究
作者姓名:张材荣 陈玉红 蒲忠胜 王道斌 元丽华 许广济 陈宏善
作者单位:[1]兰州理工大学理学院,兰州730050 [2]兰州理工大学有色金属合金及加工教育部重点实验室,兰州730050 [3]西北师范大学物理与电子工程学院,兰州730070
基金项目:国家自然科学基金(10647006,10547007);甘肃省自然科学基金(3ZS042-B25-023);兰州理工大学硕士基金(SB10200415)
摘    要:用密度泛函理论(DFT)中的杂化密度泛函B3LYP方法,在6—31G(d)的水平上对Si6N2团簇的可能结构进行了几何结构优化和电子结构计算,得到了16个可能的异构体.Si6N2团簇的最稳定结构是有4个Si-N键和4个Si—Si键的三维结构.自然键轨道方法分析成键性质的结果表明,Si—N键中Si原子向N原子有较大的电荷转移,因此Si-N原子间有较强的电相互作用;最强的IR和Raman谱峰分别位于1359.14cm^-1和1366.29cm^-1处;并计算了Si6N2团簇的最稳定结构的极化率和超极化率.

关 键 词:氮化硅 团簇 结构与性质 密度泛函理论
文章编号:1000-0364(2007)增刊-099-03
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