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激光系统用密封圈除气对真空光学元件性能影响
作者姓名:牛龙飞  尤辉  吕海兵  蒋一岚  周国瑞  李昌朋  黄林  黄进  苗心向  姚彩珍  蒋晓东
作者单位:中国工程物理研究院 激光聚变研究中心,四川 绵阳 621900
基金项目:国家自然科学基金项目(12174355);
摘    要:光学真空系统内的非金属材料出气会产生分子态污染,导致光学元件的透过率降低,进而会加剧激光诱导损伤,降低高功率激光装置的负载能力。提出对通光环境内的密封材料进行优选,开展热真空烘烤实验研究。结果表明,氟橡胶246出气量较小,温度对材料除气效果影响较大,且密封圈经过真空烘烤除气对光学特性影响较低,与密封圈不进行真空烘烤处理相比,紫外段平均透过率变化减少1个数量级,平均损伤密度降低了56%。该技术可应用于高功率激光装置精密洁净领域和其他精密光学洁净系统。

关 键 词:出气污染  非金属材料  真空烘烤  相对质量
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