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| 电子束曝光装置的研究现状 | |
| 引用本文： | 宫内荣,须华生.电子束曝光装置的研究现状[J].微纳电子技术,1976(9). |
| 作者姓名： | 宫内荣 须华生 |
| 摘 要： | 电子束曝光作为扫描型电子显微镜的应用技术制作集成电路图形大约是在十年前开始的。其分辩率早就被公认是很好的,研制出来了用光所不能实现的新器件,但还未达到实用阶段。其主要原因是曝光所需时间太长,装置的稳定性也差。但是在这期间,实施了电子光学、电子电路的各种考虑方案,做了基础方面的理论分析,进行了各种数据的积累和方式考查。扫描型曝光中的光栅扫描法、随机存取扫描 |
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