| 叠层压敏电阻器的近期研制动向 |
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| 引用本文： | 薛泉林. 叠层压敏电阻器的近期研制动向[J]. 电子元件与材料, 1998, 17(3): 25-27 |
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| 作者姓名： | 薛泉林 |
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| 作者单位： | 信息产业部第七研究所 |
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| 摘 要： | 从构成叠层压敏电阻器的生片材料（材料晶粒大小、生片厚度）、内电极材料、叠层结构和表面处理等方面，介绍叠层压敏电阻器的近期研制动向。
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| 关 键 词： | 压敏电阻器 叠层结构 研制动向 |
The recent trend of R & D of stacked chip varistors. |
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| Xue Quanlin. The recent trend of R & D of stacked chip varistors.[J]. Electronic Components & Materials, 1998, 17(3): 25-27 |
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| Authors: | Xue Quanlin |
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| Abstract: | The recent trend of R & D of stacked chip varistors is represented regarding the green film material (crystal particle size, film thickness), inner electrode, stack structure, surface treatment, etc.(16 refs ) |
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| Keywords: | varistors stack structure trend |
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