Vergleichende Untersuchungen zur Genauigkeit photometrischer und chemischer Analysenverfahren |
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Authors: | Hermann Specker Ewald Jackwerth und Heinrich Hartkamp |
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Affiliation: | (1) Institut für Spektrochemie und Angewandte Spektroskopie Dortmund-Aplerbeck in Zusammenarbeit mit der Westfälischen Wilhelms-Universität zu Münster, Deutschland |
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Abstract: | Zusammenfassung Wir haben in der vorstehenden Abhandlung zu zeigen versucht, in welcher Weise die Zuverlässigkeit photometrischer Meßeinrichtungen und Meßverfahren zu prüfen ist. Im vorliegenden Fall — beim lichtelektrischen Photometer ELKO II — hat die statistische Prüfung sämtlicher Arbeitsgänge ergeben, daß der Apparatefehler nicht größer ist als der zufällige Fehler bei klassischen chemischen Bestimmungsverfahren. Es ist demnach möglich, mit Hilfe photometrischer Messungen auch bei größeren Substanzmengen zu ebenso genauen und zuverlässigen Resultaten zu gelangen wie mit klassischen Verfahren. Statistisch überprüft und verglichen wurden beim Kupfer die photometrischen Bestimmungen mit Nitrilotriessigsäure und als Kupfersulfat |
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